Показать сообщение отдельно
  #332  
Старый 05.08.2022, 18:04
Аватар для Siglo
Siglo Siglo на форуме
участник
 
Регистрация: 11.09.2011
Сообщений: 376
Siglo на пути к лучшему
По умолчанию Ответ: Метрическая миграция.

(Продолжение). V. ЧАСТЬ. 05.08.2022.

На каждом из трёх Р-м т-в уровнях - С-с, С-н Р-м т-в Целостный Переходный процесс LC-Контура (в интервал времени) Дихотомически-расслоен на одномоментно взаимно транскрибированную пару:
I. C-c, С-н Р-м т-в Переходного процесса С-Энергетической Надстройки LC-Контура, Актуально-доминирующего над
II. Т-и, В-к Р-м т-в Переходным процессом L-Индуктивного Базиса.

Из открытого Надмножества исключительно всякий Дихотомически-расслоённый С-с, С-н Р-м т-в Целостный Переходный процесс LC-Контура (содержательного качества, метрической записи: (3 + 1) + 1 + 7 = 12) в каждом цикле (цикличной реактивации) в интервал времени поэтапно формируется и считывается в моторике действия исключительно лишь в рамках Дихотомически-расслоенного С-с, С-н Р-м т-в ЦЕЛОСТНОГО Исполнительного механизма.

Принцип Дихотомического расслоения очевиден из нижеследующего условного примера.

В интервал времени (t1 - t2) формируется (калиброванное базовыми векторами ПСО) приращение, составляющее Векторно-калиброванный (В-к) Физический потенциал U:
U1 (t1) - U2 (t2) = U.

В условном примере, U1 (t1) = 6 калиброванных единиц (к.ед.), U2 (t2) = 2 к.ед., U = 4 к.ед.:
6 к.ед. - 2 к.ед. = 4 к.ед.

Приращение 4 к.ед. являет собой Векторно-калиброванный (В-к) L-Индуктивный Базис LC-Контура.

Одномоментно взаимно транскрибированной парой В-к L-Индуктивному Базису LC-Контура является Скалярно-некалиброванная (С-н) С-Энергетическая Надстройка (над Базисом), рассчитываемая как отношение:
U1 (t1) / U2 (t2) = С (некалиброванное, «чистое» число отношения).

В условном примере, U1 (t1) = 6 к.ед., U2 (t2) = 2 к.ед., С = 3:
6 к.ед. / 2 к.ед. = 3.

Отношение 3 являет собой Скалярно-некалиброванную (С-н) С-Энергетическую Надстройку LC-Контура, Актуально-доминирующую над В-к L-Индуктивным Базисом LC-Контура = 4 к.ед.

Из условного примера очевидно, что 4 к.ед. и 3 – составляют Дихотомически-расслоённую (в интервал времени (t1 - t2)) одномоментно взаимно транскрибированную пару, однозначно определяющую пару исходных В-к Физических потенциалов U1 (t1) = 6 к.ед. и U2 (t2) = 2 к.ед.:

Х к.ед. – У к.ед. = 4 к.ед.
Х к.ед. / У к.ед. = 3.

Из решения уравнений однозначно определяются исходные значения: Х = 6 к.ед. У = 2 к.ед.

Приведенный условный пример Дихотомически-расслоённой пары является исключительно условным, поскольку Дихотомически-расслаивается в интервал времени не отдельный калиброванный Физический потенциал, а их совокупное Интегрированное множество Дихотомически-расслоённого Переходного процесса LC-Контура в форме Дихотомически-расслоённого Резонансно-квантованного спектра.

При рассмотрении Дихотомически-расслоенной пары очевидно следующее.

При Х к.ед. – У к.ед. = 0 к.ед. т.е. при Нулевом приращении В-к Р-м т-в L-Индуктивного Базиса LC-Контура равном Нулю, отношение: Х к.ед. / У к.ед. составляет не «Ноль», а Пустое множество, тождественное «Ничто.

Из чего следует, что В-к Р-м т-в Ноль в Дихотомическом расслоении одномоментно взаимно транскрибирован с С-н Р-м т-в Пустым множеством, тождественным С-н Р-м т-в Ничто, Актуально-доминирующим над В-к Р-м т-в Нулём.

Это значит, что при квантовой флуктуации разность Х к.ед. – У к.ед. – составляет калиброванное приращение (отличное от Нуля) в форме В-к Р-м т-в Переходного процесса L-Индуктивного Базиса LC-Контура, которому в Дихотомическом расслоении соответствует С-н Р-м т-в Переходный процесс С-Энергетической Надстройки LC-Контура.

Из вышеизложенного очевидно, что С-н Р-м т-в Целостное Пустое множество в содержательном качестве "Ничто" в интервал времени (t1 - t2) дихотомически-расслоено на одномоментно взаимно-транскрибированную пару:
I. C-c, С-н Р-м т-в Пустого множества в содержательном качестве С-с, С-н Р-м т-в С-Энергетической Надстройки LC-Контура, актуально-доминирующего над
II. Т-и, В-к Р-м т-в Нулем в форме Т-и, В-к Р-м т-в L-Индуктивного Базиса LC-Контура.
Ответить с цитированием